Hierarchical Manipulation of Block Copolymer Patterns on 3D Topographic Substrates: Beyond Graphoepitaxy
- Templates of complex nanopatterns in a form of hierarchically sequenced dots and stripes can be generated in block copolymer films on lithography-free 3D topographic substrates. The approach exploits thickness- and swelling-responsive morphological behavior of block copolymers, and demonstrates novel possibilities of topography-guided registration of nanopatterns due to periodic confinement and spontaneous orthogonal flow-fields.
| Verfasserangaben: | Sungjune Park, Xiao Cheng, Alexander BökerORCiDGND, Larisa Tsarkova |
|---|---|
| DOI: | https://doi.org/10.1002/adma.201601098 |
| ISSN: | 0935-9648 |
| ISSN: | 1521-4095 |
| Pubmed ID: | https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/27270877 |
| Titel des übergeordneten Werks (Englisch): | Advanced materials |
| Verlag: | Wiley-VCH |
| Verlagsort: | Weinheim |
| Publikationstyp: | Wissenschaftlicher Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Jahr der Erstveröffentlichung: | 2016 |
| Erscheinungsjahr: | 2016 |
| Datum der Freischaltung: | 22.03.2020 |
| Band: | 28 |
| Seitenanzahl: | 7 |
| Erste Seite: | 6900 |
| Letzte Seite: | + |
| Fördernde Institution: | RWTH Aachen University; CSC |
| Organisationseinheiten: | Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Chemie |
| Peer Review: | Referiert |
