Anwendung von Langmuir-Blodgett-Schichten als Resist für die Niederspannungs-Elektronenstrahl-Lithografie
| Verfasserangaben: | J. Bauer, Burkhard SchulzORCiDGND, Ludwig BrehmerGND, M. Bötcher, U. Jagdhold, K. Höppner, A. Kulesch, Birgit Dietzel |
|---|---|
| Publikationstyp: | Wissenschaftlicher Artikel |
| Sprache: | Deutsch |
| Jahr der Erstveröffentlichung: | 1995 |
| Erscheinungsjahr: | 1995 |
| Datum der Freischaltung: | 25.03.2017 |
| Quelle: | Potsdamer Workshop Funktionalisierte Dünne Organische Schichten und Grenzflächen 22. - 24. Mai 1995 : abstracts / Hrsg.: Ludwig Brehmer. - Potsdam : Inst. für Festkörperphysik der Univ., 1995 |
| Organisationseinheiten: | Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik und Astronomie |
| Name der Einrichtung zum Zeitpunkt der Publikation: | Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik |
