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Anwendung von Langmuir-Blodgett-Schichten als Resist für die Niederspannungs-Elektronenstrahl-Lithografie
| Author details: | J. Bauer, Burkhard SchulzORCiDGND, Ludwig BrehmerGND, M. Bötcher, U. Jagdhold, K. Höppner, A. Kulesch, Birgit Dietzel |
|---|---|
| Publication type: | Article |
| Language: | German |
| Year of first publication: | 1995 |
| Publication year: | 1995 |
| Release date: | 2017/03/25 |
| Source: | Potsdamer Workshop Funktionalisierte Dünne Organische Schichten und Grenzflächen 22. - 24. Mai 1995 : abstracts / Hrsg.: Ludwig Brehmer. - Potsdam : Inst. für Festkörperphysik der Univ., 1995 |
| Organizational units: | Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik und Astronomie |
| Institution name at the time of the publication: | Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik |
