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Anwendung von Langmuir-Blodgett-Schichten als Resist für die Niederspannungs-Elektronenstrahl-Lithografie

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Metadaten
Author:J. Bauer, Burkhard SchulzORCiDGND, Ludwig BrehmerGND, M. Bötcher, U. Jagdhold, K. Höppner, A. Kulesch, Birgit Dietzel
Document Type:Article
Language:German
Year of first Publication:1995
Year of Completion:1995
Release Date:2017/03/25
Source:Potsdamer Workshop Funktionalisierte Dünne Organische Schichten und Grenzflächen 22. - 24. Mai 1995 : abstracts / Hrsg.: Ludwig Brehmer. - Potsdam : Inst. für Festkörperphysik der Univ., 1995
Organizational units:Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik und Astronomie
Institution name at the time of publication:Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät / Institut für Physik